產(chǎn)品介紹：該研磨拋光微粉是以徳國(guó)進(jìn)口工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控製晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)格的分級(jí)而製成。硬度僅次於金剛石,是非常優(yōu)異的精密研磨拋光、研磨微粉。

1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能:

平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨(dú)特的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級(jí),磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,可得到高效率、高精度的被加工表麵,有特殊設(shè)計(jì)的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。

2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn):

1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的*大區(qū)彆是：片狀，硬度高，粒度均勻。

2）特點(diǎn)為：  

A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時(shí)間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍； 

   B、由於形狀為平板狀，故對(duì)於被磨對(duì)象（如半導(dǎo)體矽片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導(dǎo)體矽片，其合格品率一般能達(dá)到99%以上； 

   C、由於硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%； 

   D、與國(guó)外同類產(chǎn)品相比，質(zhì)量達(dá)到或超過國(guó)外同類產(chǎn)品，品質(zhì)已達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，但產(chǎn)品價(jià)格隻有國(guó)外同類產(chǎn)品的50%；

    E、由於平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)成本隻有原來的50%-60%。（具體數(shù)據(jù)可見用戶報(bào)告）

平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:

1）電子行業(yè) : 單晶矽片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。2）玻璃行業(yè) : 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。3）塗附行業(yè) : 特種塗料和等離子噴塗的填充劑。4）金屬和陶瓷加工業(yè)。

三, 平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指標(biāo)：

化學(xué)成份:AL2O3:99.6         SiNa2O2:0.027   

             Na2O:0.03       Fe2O3 0.03

  粒度分布:

        粒度分布 微米（μm）

產(chǎn)品 平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測(cè)試）

WTA3                                                          3.1

WTA5                                                          4.8

WTA9                                                          6.5

WTA12                                                        8.0

WTA15                                                        10.5

WTA20                                                        14.5

WTA25                                                        17.5

WTA30                                                        20.5

WTA35                                                        24.5

WTA40                                                        30.5

WTA50                                                        38.0